Công nghệ High NA EUV của ASML bước vào sản xuất hàng loạt với Intel 18A

ASML Holding N.V. (ASML) hôm nay cho biết Intel Foundry đã bắt đầu sử dụng công nghệ High NA EUV của ASML trên tiến trình Intel 18A để sản xuất một phần bộ vi xử lý Intel Core Ultra Series 3. Đây là một cột mốc quan trọng, chứng minh công nghệ High NA EUV đã sẵn sàng cho môi trường sản xuất thực tế.

Trong nhiều thập kỷ qua, ASML và Intel đã hợp tác chặt chẽ để thúc đẩy công nghệ quang khắc và tiếp tục mở rộng giới hạn của ngành bán dẫn. High Numerical Aperture Extreme Ultraviolet (High NA EUV) là thế hệ tiếp theo của công nghệ quang khắc EUV do ASML phát triển, cho phép tạo các họa tiết vi mạch với độ chính xác cao hơn, phục vụ sản xuất các chip tiên tiến.

Các bộ xử lý Intel Core Ultra Series 3 (tên mã Panther Lake) được sản xuất trên tiến trình Intel 18A. Việc ứng dụng High NA EUV để tạo hình một số lớp quan trọng của chip giúp ASML và Intel Foundry thu thập dữ liệu nhằm tối ưu quá trình thiết lập hệ thống, nâng cao thời gian hoạt động (uptime) và cải thiện quy trình sản xuất. Đây cũng là nền tảng để mở rộng việc triển khai công nghệ này trong tương lai và khai thác tối đa năng lực của High NA EUV.

Ông Christophe Fouquet, Chủ tịch kiêm CEO của ASML, cho biết: "Với độ phân giải cao hơn và khả năng kiểm soát quy trình tốt hơn, High NA EUV đánh dấu một bước tiến lớn trong công nghệ quang khắc bán dẫn. Chúng tôi tự hào góp phần tạo ra các cấu trúc bán dẫn nhỏ hơn và mật độ cao hơn, từ đó thúc đẩy sự phát triển của AI cũng như nhiều công nghệ mới nổi."

Ông Naga Chandrasekaran, Phó Chủ tịch Điều hành kiêm Tổng Giám đốc Intel Foundry, chia sẻ: "Cột mốc này phản ánh sự hợp tác kỹ thuật chặt chẽ giữa Intel và ASML, đồng thời chứng minh High NA EUV có thể được tích hợp vào quy trình sản xuất bán dẫn tiên tiến ở quy mô lớn. Việc đưa tùy chọn quy trình High NA EUV vào một số lớp của sản phẩm Intel 18A giúp chúng tôi tăng sản lượng trên hệ thống thiết bị hiện có, đồng thời tiếp tục phát triển các giải pháp mới nhằm đạt hiệu năng, mật độ bóng bán dẫn và tính linh hoạt trong sản xuất ở các tiến trình tiếp theo."

Năm 2024, Intel và ASML đã hoàn tất việc tích hợp hệ thống quang khắc High NA EUV thương mại đầu tiên trên thế giới tại trung tâm R&D của Intel ở Hillsboro, bang Oregon (Mỹ).

Intel Foundry cũng là công ty đầu tiên lắp đặt và hoàn thành quá trình nghiệm thu hệ thống TWINSCAN EXE:5200B thế hệ thứ hai của ASML. Hệ thống này kế thừa TWINSCAN EXE:5000, đồng thời cải thiện sản lượng, độ chính xác căn chỉnh (overlay accuracy) và nguồn sáng.

Với thông báo này, Intel Foundry trở thành doanh nghiệp đầu tiên trong ngành xuất xưởng chip logic sản xuất hàng loạt bằng công nghệ High NA EUV, đánh dấu một bước tiến quan trọng trong quá trình thương mại hóa thế hệ quang khắc mới của ASML.